Projekte

Bei der Herstellung von Mikrostrukturen werden häufig Fotolacke eingesetzt, mit Hilfe derer die gewünschten Strukturen in das Zielmaterial übertragen werden. Dabei wird der Lack belichtet und anschließend entwickelt, wodurch der Fotolack die gewünschte Struktur annimmt. Bei der Belichtung entstehen durch die fotochemische Reaktion bei vielen Fotolacken sogenannte latente Bilder, welche sich durch eine Änderung des Brechungsindex in den belichteten Bereichen auszeichnen.

Im Rahmen dieses Projekts wurden diese latenten Bilder als Referenzmarken benutzt, um in einem direkt schreibenden Polarkoordinaten-Laserlithographiesystem den Ursprung des Koordinatensystems zu bestimmen und den Positionsdrift der Anlage während des mehrstündigen Belichtungsprozesses zu detektieren und zu kompensieren.

Dazu wurde ein hochempfindliches Detektionsverfahren und die notwendige Sensorik entwickelt und in das Lithographiesystem integriert.

Durch die Anwendung eines Trägerfrequenz-Messverfahrens konnte für die Koordinatenbestimmung eine Wiederholgenauigkeit < 3 nm realisiert werden, bei einer hohen Toleranz gegenüber äußeren Störeinflüssen.